1. Krajnji stupanj vakuuma komore za jetkanje: manji ili jednak 9.0×10-5Pa;
2. Materijali za jetkanje: silicij, kvarc, III.-V spojevi, keramika i razni metali, nemetalni tvrdi filmovi itd.;
3. Brzina jetkanja: veća ili jednaka 10 nm ~ 200 nm /min (ovisno o specifičnom materijalu za jetkanje i procesu);
4. Ionski izvor: kružni istosmjerni ionski izvor promjera Φ150 mm;
5. Raspon energije iona Ar+: 100~1000 eV;
6. Gustoća ionskog snopa: 0~1 mA/cm2.